K používání a měření webu využíváme cookies. Používáním tohoto webu souhlasíte se způsobem, jakým s cookies nakládáme. Další informace

Laserový litografický systém

Klient: Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i.

Začátkem října 2016 jsme na Ústavu fotoniky a elektroniky nainstalovali laserový litografický systém s přímým zápisem, model MicroWriter ML2. Bude se zde využívat pro vytváření mikro a nanostruktur a funkčních biomolekulárních souborů v rámci výzkumu optických senzorů a povrchovým plazmonů.

MicroWriter je flexibilní fotolitografický systém určený pro vývojové a prototypové práce a pro produkci malých objemů. Používá metody přímého zápisu laserem a to na vlnových délkách 405 nm, 365 nm či nově i 385 nm. Systém umoňuje dosáhnout rozlišení až 0,6 µm. Mezi hlavní přednosti patří vysoká rychlost zápisu, velká pracovní plocha, schopnost zmapovat plochu a udělat korekce na výškové nerovnosti před vlastním zápisem a snadné ovládání.

Parametry

  • Velikost substrátu : 230 mm x 230 mm x 15 mm
  • Maximální zapisovatelná plocha : 195 mm x 195 mm
  • Dosahované rozlišení : 0,6 µm, 1 µm, 2 µm, 5 µm
  • dostupné vlnové délky : standardně 385 nm, případně 405 nm a 365 nm
  • Zapisovací rychlost : 25 mm2/min až 180 mm2/minutu

MicroWriter ML3

MicroWriter ML3

Optický litograf s přímým vysokorychlostním zápisem a vysokým rozlišením