Optický litograf pro mikro-kontaktování

Sestava umožňující zápis struktur s vysokým rozlišením s možností zápisu na velké plochy i na několik sub-milimetrových fragmentů současně.

Možnost vícenásobného zápisu s přesným zarovnáním a možností virtuálního náhledu před zápisem.

Zdroj osvitu vhodný pro širokou škálu fotorezistů (g-, h-, i-line a broadband fotorezisty)

Stabilní systém pro časově náročné, velkoplošné zápisy ve vysokém rozlišení.

• Mikro-kontaktování s přesným zarovnáním (< 500 nm)
• Rychlý, velkoplošný zápis se stabilizací teploty
• Vysoké rozlišení: 400 nm

V lednu 2021 jsme pro Ústav fyzikální chemie J. Heyrovského, AV ČR instalovali Microwriter ML3 Pro od britského výrobce Durham Magneto Optics Ltd. (DMO).

Jedná se o sestavu s rozlišením 400 nm, s vysoce přesným polohovacím systémem.

Zdroj osvitu s vlnovou délkou 385 nm a vysokým optickým výkonem umožňuje zápis na běžné g-line a h-line fotorezisty, ale také na oblíbený i-line fotorezist SU-8.

Teplotní stabilizace zase zajišťuje maximální stabilitu i pro delší zapisovací úlohy.

Funkce integrovaného profilometru umožňuje mj. ověření zápisu po vyvolání struktury.

Funkce Virtual mask aligner (VMA) pro přesné zarovnání zápisu na existující struktury poslouží pro přesné a snadné mikro-kontaktování. Microwriter ML3 navíc umožňuje zápis i ve stupních šedi.

Parametry zařízení

• Vlnová délka zdroje: 385 nm
• Teplotní stabilizace: ± 0,25 °C
• Rozlišení zápisu: 400 nm, 600 nm, 1000 nm, 2000 nm a 5000 nm
• Počet objektivů: 5 (zvětšení 3x až 50x)

Další funkce: VMA, wide field viewer, integrovaný profilometr, autofocus, focus lock, virtuální rotace, automatické centrování vzorku, automatická detekce hran