Laserový litograf Microwriter ML3 Baby Plus Dual-Wave

Sestava umožňující zápis struktur s vysokým rozlišením s možností zápisu na velké plochy i na několik (i sub-milimetrových) fragmentů současně.

Možnost vícenásobného zápisu s přesným zarovnáním struktur (< 0,5 µm).

Duální zdroj osvitu 365 nm a 405 nm s automatickým přepínáním dle fotorezistu.

Stabilní systém pro časově náročné, velkoplošné zápisy ve vysokém rozlišení.

• Mikro-kontaktování s přesným zarovnáním (< 500 nm)
• Rychlý, velkoplošný zápis (až 150 mm x 150 mm)
• Vysoké rozlišení: 600 nm
• Zápis ve stupních šedé

V listopadu 2021 jsme pro Ústav přístrojové techniky, AV ČR instalovali Microwriter ML3 Baby+ Dual-Wave od britského výrobce Durham Magneto Optics Ltd. (DMO).

Jedná se o sestavu s volitelným rozlišením 0,6 µm a 5 µm s možností dalšího rozšíření a s vysoce přesným polohovacím systémem se středním rozsahem zápisu (150 mm x 150 mm).

Duální zdroj osvitu je novinkou pro optimální zápis na širokou škálu fotorezistů (g-, h-, i-line a broadband fotorezisty). Konstrukčně je řešeno pomocí dvou osvitových jednotek (výkonné úzkopásmové LED: 365 nm a 405 nm) s automatickým přepínáním dle potřeb uživatele.

Funkce integrovaného profilometru umožňuje mj. ověření zápisu po vyvolání struktury.

Zápis i ve stupních šedi je umožněn při zachování vysoké rychlosti plošného zápisu a to ve 256 úrovních intenzity.

Parametry zařízení

• Vlnová délka zdroje: 365 nm + 405 nm
• Rozlišení zápisu: 600 nm, 5000 nm
• Počet objektivů: 2 (zvětšení 3x až 20x) s možností budoucího rozšíření a s digitálním zoomem.

Další funkce: wide field viewer, integrovaný profilometr, autofocus, focus lock, virtuální rotace, automatické centrování vzorku, automatická detekce hran, automatické rozpoznání markerů