MicroWriter ML3

MicroWriter ML®3 je přístroj určený pro přímý (bezmaskový) optický záznam mikrostruktur do fotorezistů. Umožňuje výrobu elementů se sub-mikronovým rozlišením i s velkými poměrem stran pro ty nejnáročnějí aplikace (od mikrokontaktování přes tvorbyu difraktivních struktur po mikrofluidiku). 3D zápis ve stupních šedi rozšiřuje využitelnost i na tvorbu optických mikroelementů (mikročočky, blejzované mřížky).

Unikátně vysoká rychlost díky plošnému zápisu společně s integrovanými nástroji pro zvýšení efektivity posouvají uživatelskou zkušenost na novou úroveň. Microwriter ML3 je pro svou vysokou míru flexibility ideální pro účely výzkumu a vývoje a pro tvorbu prototypů.

Aplikace

Přístroje umožňují rychlý a jednoduchý návrh a přípravu:

  • fotonických prvků
  • MEMS/NEMS struktur
  • lab-on-a-chip a mikrofluidních elementů
  • difraktivních struktur
  • prvků pro THz aplikace
  • struktur pro mikroelektroniku a spintroniku.

MicroWriter rovněž umožňuje si vytvořenou strukturu zobrazit a případně upravit nebo doplnit díky automatickému zarovnání vzorku.

Klíčové vlastnosti

  • Rozlišení až 400 nm
  • Rychlost zápisu až 180 mm2/min
  • Automatická volba rozlišení
  • Možnost dual-wavelength systému (365 nm a 405 nm)
  • Vizualizace struktury na obraz vzorku před zápisem
  • Možnost realizace 3-D struktur
  • Korekce nerovností vzorku (wedge/bow)
  • Uživatelsky přívětivý software
  • Skvělý poměr cena / výkon
  • Komunikační modul - e-mailové notifikace o stavu úloh
Richard Schuster
Odborný poradce

Ing. Richard Schuster

+420 601 123 593

schuster@optixs.cz

Zaslat poptávku

OptiXs care

  • Odborně zkonzultujeme vaši plánovanou aplikaci
  • Náš tým je schopen produkt integrovat i do většího systému
  • Zajistíme rychlé dodání náhradních dílů a lokální servis
S čím dalším můžeme pomoci

Video

Aplikace

Parametry

 

Model ML® 3 Baby ML® 3 Baby Plus ML® 3 Mesa ML® 3 Pro ML® 3 Pro XL

Rozlišení

1 - 5 µm

(1 objektiv)

až 0.6 - 5 µm

(2 objektivy)

0.6 - 5 µm

(3 objektivy)

až 0.4 - 5 µm

(až 5 objektivů)

až 0.4 - 5 µm

(až 5 objektivů)

Rychlost zápisu [mm2/min] 50 50 – 180 17 – 180 10 – 180 10 – 180

Vlnová délka [nm]

405

(a/nebo 365, 385)

405

(a/nebo 365, 385)

405 

(a/nebo 365, 385)

385

(a/nebo 365, 385)

385

(a/nebo 365, 385)

Mikroskopové objektivy

3x až 10x

 (1 ks z nabídky) 

3x až 20x

(2 ks z nabídky) 

3x až 20x

 (3 ks z nabídky) 

3x až 50x

(až 5 ks z nabídky) 

3x až 50x

 (až 5 ks z nabídky) 

Grayscale litografie ano (255 úrovní) ano (255 úrovní) ano (255 úrovní) ano (až 768 úrovní) ano (až 768 úrovní)
Rozlišení polohovacího XY stolku [nm] 15 15 15 4 4
Rozlišení XY interferometru [nm] 15 15 15 1 1
Min. adresovatelná síť [nm] 100 60 30 30 (option: 12,5) 30 (option: 12,5)
Maximální rozměry substrátu [mm] 155 x 155 x 7 155 x 155 x 7 155 x 155 x 7 230 x 230 x 15 až 300 x 300 x 175
Zapisovací oblast [mm] bez omezení v rozích 149 x 149 149 x 149 149 x 149 195 x 195 295 x 295
Optický profiloměr ne ano ano ano ano
Virtual Mask Aligner ne volitelně volitelně

ano

ano

Multiple chips option ne volitelně volitelně

ano

ano

Teplotní stabilizace ne volitelně volitelně ano ano
Optický stůl pro izolaci vibrací volitelně volitelně volitelně ano ano
Možný upgrade ano ano ano (backside alignment) (backside alignment)

Přímý bezmaskový zápis  (maskless optical lithography, nebo také direct laser writing) výrazně snižuje časovou i finanční náročnost při kusové produkci a tvorbě prototypů. Díky automatické volbě rozlišení je uživateli navíc umožněno zapisovat struktury vysokou rychlostí při zachování optimálního rozlišení v celé oblasti zápisu. Automatická fokusace společně s nástrojem pro inspekci povrchu substrátu umožňuje zápis i na nerovné, šikmé a prohnuté substráty.

Virtual Mask Aligner (VMA) je nástroj pro promítnutí zapisované struktury na živý obraz vzorku z kamery. Tento nástroj zjednodušuje manipulaci při mikrokontaktování, při zápisu na již existující struktury a při více-krokovém zápisu.

Povrch struktury zobrazený pomocí dat z integrovaného profiloměru Microwriteru ML3

Integrovaný profiloměr nabízí možnost náhledu povrchového profilu vzorku a současně umožňuje automatické provádění korekcí nerovností během zápisu. Software umožňuje zobrazení profilu v řezech podél os x a y, případně export dat pro další analýzu.

Výšková korekce během zápisu (funkce focus lock) umožňuje zápis na nerovné (šikmé, vyboulené, atd.) substráty.

Nástroj Wide Field Viewer umožňuje široký náhled na vzorek pomocí stitchingu snímků z kamery s volitelným zvětšením pomocí přítomných mikroskopových objektivů. To usnadňuje hledání malých elementů na vzorcích o velké ploše.

Automatické rozpoznání markerů a zarovnání vzorku usnadňuje vícenásobné zápisy do fotorezistu a zvyšuje opakovatelnost při zápisu struktur. Přístroj je navíc možné rozšířit o nástroj pro hledání markerů na spodní straně substrátu (backside alignment).

Automatické generování i čtení QR kódů je nově dostupné pro všechny modely z řady Microwriter ML3.

Volitelnost vlnové délky osvitu (365 nm, 385 nm nebo 405 nm) umožňuje zápis na širokou škálu fotorezistů (broadband, g-, h-, i- line pozitivní i negativní rezisty včetně populárního SU-8). Pro ještě větší flexibilitu systému máme v nabídce také dual-wavelength variantu pro jakýkoliv ze systémů. Tedy možnost využití dvouzapisovacích vlnových délek (například 365 nm a 405 nm).

Další z řady vychytávek je komunikační modul, který vám automaticky oznámí dokončení úlohy například notifikací do vaší e-mailové schránky.

Použití LED zdroje s dlouhou životností (garantováno 5 let) snižuje provozní náklady na minimum.

Novinky

Zobrazit vše

Referenční projekty

Dokumenty

Microwriter ML3 Brožura

Poptat produkt

Máte zájem o produkt? Zašlete nám své požadavky skrze poptávkový formulář nebo využijte přímý kontakt na odborného poradce. Rádi zodpovíme vaše dotazy a navrhneme řešení dle vašich potřeb.

Odborný poradce

Richard Schuster

Ing. Richard Schuster